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Nikon Eclipse MA100倒立式金相顯微鏡

產品型號:MA100

詢價
Nikon Eclipse MA100倒立式金相顯微鏡
產品規格

操作更簡單,成本收益率更高的顯微鏡

一款佔地面積小、畫質卓越、性價比高、耐用且體現人性化設計的倒置顯微鏡


ECLIPSE MA100 是一款應用明場或簡易偏光照明技術,專為反射照明觀察而設計的體積較小的倒置顯微鏡。
MA100 佔地面積小,堅固耐用、操作簡單,並且配備了卓越的尼康光學系統,是以下應用的理想台式系統解決方案:金相樣本觀察、電子元件觀察、故障分析、材料科學及品管應用。


載物台
即使放置較重的標本也能進行穩定的操作新開發的載物台具有超強的耐久性


尼康特別為 MA100 開發的新型 MA-SR 矩形載物台。 三板式結構載物台使顯微鏡操作更為穩定,耐久性更高,可用於觀察較重的標本,無需將標本從研磨樹脂上取出,可直接置於載物台上觀察。
  CFI60
CFI60 光學系統可確保銳利、清晰的觀察效果

尼康擁有專利的CFI60光學系統具有更高的數值孔徑和更長的工作距離。 CFI60 LU 光學系統可為使用者提供明亮的高對比度、高解析度影像。 MA100配備內建影像端口,十分適合數位影像拍攝。 內建物鏡轉換轉盤最多可安裝5個物鏡鏡頭,方便使用者以各種倍率精準度觀察。
  孔徑光闌
標配口徑光闌

洛射照明棄標配各種孔徑光闌,可靈活控製圖象隊度與景深
  反光鏡
迅速確定物鏡倍率精度

ECLIPSE MA100 的載物台下方裝有反光鏡,方便使用者查看物鏡倍率。 現在使用者不但可以輕鬆驗證所用物鏡鏡頭種類,而且無需查看債務台下方情況便可檢查標本位置。
  起偏器 / 檢偏器
透過連動式起偏器 / 檢偏器機構進行簡易偏光觀察

使用者可透過 MA-P/A Po1套件輕鬆進行反射偏光觀察。 只需一步簡單的操作便可將起偏器和檢偏器置入光路中。 起偏器能旋轉360°,方便使用者設定一個適合標本觀察的偏光方向。
可用於偏光觀察的標本包括:塑膠、薄膜、金屬、污染物、化學品、應變測試材料、玻璃和其他材料等。

尼康顯微鏡獨有的最佳成像功能。


影像拍攝

DS-L2 相機控制裝置
獨立型

使用者無需使用目鏡,便可透過內建高解析度、大尺寸(8.4吋) XGA LCD 顯示屏,輕鬆觀察和討論標本情況。


可方便儲存 / 列印數據
已拍攝影像可儲存至 USB 記憶體或CF卡。 除了可透過相容 PictBridge 的印表機直列印,使用者還可透過區域網路將資料儲存至伺服器。

狀態顯示


當物鏡倍率精度改變時,可自動改變校準資料。 因此使用者可方便地使用 DS-L2的測量功能。 照明亮度可透過調整電壓值的方式手動調整。 這一 點對於設定最佳觀察和拍攝參數非常重要。

影像分析

DS-L2 相機控制裝置
PC 控制型
影像軟體 NIS-Elements
控制軟體

使用者可透過 DS-U2和NIS-Elements進行從拍照到測量、分析及管理已拍攝影像等一系列操作。
*要了解更多信息,請查看 NIS-Elements產品目錄。


合成
相鄰的影像可以拼接在一起,創造出寬視野影像。 因為照明效果更加均勻、一致,現在拍攝的影像更加生動。

狀態顯示


當物鏡倍率精度改變時,可自動改變校準資料。 因此使用者可方便地使用 NIS-Elements的測量功能和其他可選軟體模組(晶粒度和鑄鐵球化率分析模組等)。
使用者可透過 PC 調整照明條件,這點對於設定最佳觀察、影像拍攝參數,尤其是大影像合成參數非常重要。

(同時顯示中間可變倍率精度)

晶粒粒度分析模組


本模組可依 JIS G0551或 ASTM E112-96/E1382-97 標準檢測並測量1個或2個相位標本的晶粒度。

可進行以下測量:
  • G 晶粒度
  • 單位面積內的晶粒度及/或截距
  • 晶粒數量
  • 向異性指數
  • 其他基本晶粒度統計

可依使用者需求提供以下客製化測量技術:

  • 平面
  • 線性
  • 圓形
  • Abrams
鑄鐵球化率分析模組


本模組可依據 JIS G5502 或 ASTM A247-06標準檢測、測量和分類石墨校正標本的石墨成分和鐵氧體成分。

主要應用:
  • 石墨形狀及尺寸分類
  • 結核狀態
  • 石墨、鐵氧體、珠光體成份
  • 其他基本鐵質材料分析統計
  • 影像遮罩、尺寸限制及模組形狀分類