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Nikon LV-N 正立金相顯微鏡

產品型號：LV-150N

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Nikon LV-N 正立金相顯微鏡
產品規格

LV150N/LV150NL/LV150NA

型號 LV150N LV150NL LV150NA
顯微鏡類型 手動型 電動型
(物镜轉换器)
兼容的觀察方法
  明場 暗場 DIC 螢光 偏光 雙光束干涉測量
LV150/ LV150NA 反射 O O O O O O
反射 (LED) O O O - Δ -
LV150NL 反射 O - O - O O
*請使用適合於關察方法的物鏡。
Δ: 僅限簡易偏光觀察
兼容的載物台
  • LV‑S32 3×2載物台（行程：75 × 50 mm（附玻璃板）
    *可配備LV‑S32SPL ESD板
  • LV‑S6 6×6載物台（行程：150 × 150 mm）
    *可配備LV‑S6WH晶片夾/LV‑S6PL ESD板
  • LV‑SRP P旋轉載物台
  • P‑GS2 G旋轉載物台2（需配LV‑SAD 轉接板）
與Digital Sight顯微鏡數碼相機集成 DS-L3(獨立型控制装置) 物鏡信息檢測(與智能物鏡轉換器LV-NU5I和LV-INAD 配合使用時) 物鏡信息檢測和控制
DS-U3+NIS-Elements
(基於個人計算機控制的控制裝置+ 成像軟件)		 物鏡信息檢測(與智能物鏡轉換器LV-NU5I和LV-INAD 配合使用時) 物鏡信息檢測和控制

 

LV100ND/LV100DA-U

 

型號 LV100ND LV100DA-U
顯微鏡類型 手動型 電動型
(物鏡轉換器／光強／孔徑光闌／觀察方法選擇器)
兼容的觀察方法
  明場 暗場 DIC 螢光 偏光 相對 雙光束干涉測量
LV100ND,
LV100DA-U		 反射 O O O O O O -
反射 (LED) O O O - Δ - -
透射 O O O - O - O
* 請使用適合於觀察方法的物鏡。
Δ: 僅限簡易偏光觀察
兼容的載物台
  • LV-S32 3×2 載物台(行程：75 × 50 mm，带玻璃板)*可配合使用 LV-S32SGH 載玻片標本夹。
  • LV-S64 6×4 載物台(行程：150 × 100 mm，带玻璃板)
  • LV-SRP P 旋轉式載物台
  • P-GS2 G 載物台 2(配合載物台適配器 LV-SAD 使用)
  • NIU-CSRR2 Ni-U 右手柄旋转型陶瓷載物台(行程：78 × 54 mm)
  • C-SR2S 右手柄載物台(行程：78 × 54 mm：配合載物台適配器 LV-SAD 使用)
與Digital Sight顯微鏡數碼相機集成 DS-L3(獨立型控制装置) 物鏡信息檢測(與智能物鏡轉換器LV-NU5I和LV-INAD 配合使用時) 物鏡、光強、孔徑光闌和觀察方法(場／暗場／熒光)信息檢測
DS-U3+NIS-Elements
(基於個人計算機控制的控制裝置+ 成像軟件)		 物鏡信息檢測(與智能物鏡轉換器LV-NU5I和LV-INAD 配合使用時) 物鏡、光強、孔徑光闌和觀察方法(明場／暗場／熒光)信息檢測和控制

  DS-L3(獨立型控制装置)DS-U3+NIS-Elements (基於個人計算機控制的控制裝置+ 成像軟件)


CFI₆₀-2

更高的光學性能

尼康的CFI60光學系統，因其高數值孔徑和長工作距離的獨特設計理念而廣受好評，已經在長工作距離、色差校正和輕量化方面佔據了製高點。



T Plan、TU Plan Fluor和TU Plan Apo物鏡


常規平場物鏡
TU Plan Fluor 系列


只用一個鏡頭即可支援明場、暗場*、簡易偏光、微分乾涉和反射螢光觀察。 透過所有倍率下的長工作距離獲得卓越的色差校正性能，可適應任何應用。

種類 倍率 數值孔徑 工作距離（mm）
TU Plan Fluor EPI
（反射明場型）		 5× 0.15 23.5
10× 0.30 17.5
20× 0.45 4.5
50× 0.80 1.0
100× 0.90 1.0
TU Plan Fluor BD
（反射明暗場型）		 5× 0.15 18.0
10× 0.30 15.0
20× 0.45 4.5
50× 0.80 1.0
100× 0.90 1.0

*使用複眼透鏡。



低倍率物镜
T Plan EPI


既可使用傳統起偏器/檢偏器進行清晰的觀察，也可在無需起偏器/檢偏器的情況下進行易於操作的觀察。

種類 倍率 數值孔徑 工作距離（mm）
T Plan EPI
（反射明場型）		 1× 0.0.3 3.8
2.5× 0.075 6.5

復消色差物鏡
TU Plan Apo 系列


透過使用菲涅爾透鏡，這些物鏡明顯獲得了更長的工作距離，同時保持復消色差鏡頭的卓越色差校正性能。

種類 倍率 數值孔徑 工作距離（mm）
TU Plan Apo EPI
（反射明場型）		 50× 0.8 2.0
100× 0.9 2.0
150× 0.9 1.5
TU Plan Apo EPI
（反射明暗場型）		 50× 0.8 2.0
100× 0.9 2.0
150× 0.9 1.5

暗場照明

  複眼透鏡

透過使用複眼透鏡， CFI₆₀-2 光學系統為整個視野提供明亮的暗場照明，而幾乎沒有不均勻現象（即使針對低倍率鏡頭）。
  暗場照明系統

隨著數值孔徑和工作距離的提升，物鏡的外直徑也增加。 但是，因為入射光的寬度是固定的，導致傳統照明系統的光強度降低。
本照明系統使用環形透鏡或環形棱鏡 增加拍攝光線，並獲得明亮、無衰減的暗場照明。


TU Plan ELWD 與 T Plan SLWD 物鏡 (長工作距離／超長工作距離物鏡)


長工作距離物鏡
TU Plan ELWD 系列


菲涅耳透鏡的採用，增大了這些物鏡的工作距離，同時提供比傳統物鏡更高的色差校正等級。 工作距離的增大，提高了孔底/台階底觀察的深度範圍，以及可操作性。

種類 倍率 數值孔徑 工作距離（mm）
TU Plan EPI ELWD
（反射明場型）		 20× 0.4 19.0
50× 0.6 11.0
100× 0.8 4.5
TU Plan BD ELWD
（反射明暗場型）		 20× 0.4 19.0
50× 0.6 11.0
100× 0.8 4.5

超長工作距離物鏡
T Plan EPI SLWD


T Plan SLWD 系列在改善色差的同時將工作距離放在首要位置，擁有同級最佳的超長工作距離。 SLWD 10x（工作距離： 37 mm）鏡頭支援處理更多樣式的樣品。

種類 倍率 數值孔徑 工作距離（mm）
T Plan EPI SLWD
（反射明場型）		 10× 0.2 37.0
20× 0.3 30.0
50× 0.4 22.0
100× 0.6 10.0

相位菲涅耳物鏡

加入菲涅耳透鏡可改善消色差性能並提升工作距離


  改善消色差性能

普通透鏡利用光的折射成像，其折射強度因光波的顏色（波長）而異，在靠近透鏡的地方藍光首先成像，然後由近及遠依次是綠光和紅光；菲涅爾透鏡利用了光 的衍射，在靠近透鏡的地方紅光首先成像，然後由近及遠依次是綠光和藍光。 把這樣兩種成像特性正好相反的透鏡組合在一起，可以達到消色差的目的。
  實現長工作距離

加入菲涅耳透鏡，可以使物鏡用較短的鏡組距離實現消色差，以確保獲得比傳統物鏡更長的工作距離。


其它物鏡


具有玻璃厚度校正功能的物鏡
CFI L Plan EPI CR


這類物鏡特別適於觀察玻璃板下方的液晶。 玻片厚度校正環可以克服玻璃板板厚的影響，確保板下液晶觀察的清晰度。

種類 倍率 數值孔徑 工作距離（mm）
CFI L Plan EPI CR
（反射明場型）		 20× CR 0.45 10.90 - 10.00
50× CR; 0.70 3.90 - 3.00
100× CRA 0.85 1.20 - 0.85
100× CRB 0.85 1.30 - 0.95

反射明場/暗場觀察用物鏡
CFI LE Plan EPI/BD


 

種類 倍率 數值孔徑 工作距離（mm）
LE Plan EPI
（反射明場型）		 5× 0.1 31.0
10× 0.25 13.0
20× 0.4 3.6
50× 0.75 0.5
100× 0.9 0.31
LE Plan BD
（反射明暗場型）		 5× 0.1 18.0
10× 0.25 13.0
20× 0.4 3.6
50× 0.75 0.5

輕鬆操作

加裝數位相機


LV150N / LV100ND / LV150NA (物鏡資訊偵測與控制)

  智慧物鏡轉換器 LV-NU5I 配備物鏡訊號轉接器 LV-INAD 可支援 NIS-Elements 軟體辨識目前在用物鏡。 發生物鏡轉換時，軟體中的倍率校正也會隨之自動進行。 LV150NA 不僅支援 NIS-Elements 軟體對物鏡的自動識別，還支援由軟體操控的物鏡轉換。


LV100NDA(顯微鏡資訊檢測與控制)

LV100NDA 支援透過 NIS-Elements 軟體對物鏡、光強度、孔徑光闌和觀察方法（明場/暗場/螢光）進行資訊偵測和控制，從而優化對於影像拍攝至關重要的條件。


資訊檢測和控制相容性列表
●：資訊檢測與控制均可
O：限資訊檢測		 LV150N/LV100ND
（使用 LV-NU5I 和 LV-INAD 時）		 LV150NA LV100NDA
（使用 LV-UEPI2A 照明器時）
DS-Ri2/DS-Fi3 (+NIS-Elements) DS-Ri2/DS-Fi3 (+NIS-Elements) DS-Ri2/DS-Fi3 (+NIS-Elements)
物鏡 O ● ●
反射照明
（開啟／關閉，光強調節）
※當使用 LV-LH50PC 時		 - - ●
透射照明
（開啟／關閉，光強調節）		 - - ●
孔徑光闌 - - ●
觀察方法
（明場／暗場／螢光）		 - - ●

※NIS-Elements 的 L 套與 F 套不支援資訊檢查與控制，請使用 NIS-Elements D 套、 Br 套或 Ar 套。




相機系統 (顯微攝影用 Digital Sight 系列數位相機)
顯微鏡用數位相機
DS-Fi3
集以往型號的主要特點（高分辨、高感度/低噪音、高速即時動態顯示）於一 身，並進一步提升了這些性能。
DS-Ri2
利用尼康特有的演算法，實現顯微影像的真實再現。 可快速拍攝高清彩色影像。

幀頻 30 fps (1440×1024) 45 fps (1636×1088)
最大可記錄像素 2880×2048 2880×2048

影像處理及控制軟體
NIS-Elements



只需在平板電腦上安裝 NIS-Elements L 即可設定和控制數位相機 DS-Fi3/DS-Ri2，實現顯微影像的即時動態顯示，完成顯微照片的拍攝。

  
  • 各種工具
NIS-Elements L 套軟體可在拍攝到的影像上，執行簡易測量，輸出測量結 果實。 另外，在影像上也可增加標註，這些都可以隨影像資料一起保存。		  
  • 場景模式
針對各種顯微鏡光源、觀察方法和樣品類型，有十種模式可供選擇，以達 到最佳的色彩再現和對比度。
  • 晶片／ IC
  • 金屬、陶瓷／塑料
  • 電路板
  • 平面顯示器
  
  • 影像拼接
將多個視野拍攝的影像拼接成一幅大影像。		  
  • EDF（景深擴充）
利用在不同對焦位置拍攝的影像，合成一幅全景影像。		  
* 關於 Digital Sight 功能的詳細信息，請參閱“顯微鏡用數位相機Digital Sight系列”手冊。


觀察方法

可相容於一系列觀察方法：明場、暗場、偏光、微分乾涉、反射螢光和雙光束干涉觀察。
半導體（IC 晶片）
從物鏡到照明系統， LV‑N 系列均擁有良好的消雜光結構設計，可為您提供明亮的高對比度影像。  



 半導體（IC 晶片）
在物鏡暗場照明系統中使用尼康的獨特概念，支持明亮的暗場觀察，並就樣品上的微小台階和缺陷提供高靈敏度檢測。



 液晶
根據樣品觀察需要， DIC 稜鏡插片有標準型和高對比度型兩種選擇。 LV-N 適合於電子零件的觀察。 此外， 微分乾涉（ DIC）還可觀察到模具表面極細的加工紋理 （明場所看不到的細微高度差表現）。
印刷電路板（焊錫）
對有機 EL、有焊接的印刷電路板等樣品，螢光觀察可以發揮其獨特的效果。




 礦相
LV‑N 系列可有效觀察具有雙折射特性的樣品，如方解石、液晶、含有內應力的塑膠與有機玻璃等。



 雲母
LV-N 可配備 Michelson（TI）和 Mirau（DI）兩種物鏡，進行雙光束干涉觀察。 與測微目鏡結合使用， 還能對樣品上的微小台階進行非接觸式（台階高）檢測。
LCD（彩色濾光片）
LV-N 可觀察光學零件、平板顯示器、載玻片上的透明樣品。 在光路中加入 C-SP 型起偏器、檢偏器，還可實現簡易偏光觀察。

 乳化液
利用光的繞射與乾涉，使無色透明的樣品獲得良好的明暗對比，從而變得清晰可見。


 奈米粒子（銀）
利用兩束偏振光的干涉，使無色透明的樣品呈現立體像。
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