產品敘述
為新一代產品，是EPIPHOT TME300/200型金相顯微鏡的後續機種，支持明視野、暗視野、微分干涉、螢光、簡易偏光等觀察方式，具有結構緊湊、操作方便、照明均勻、成象清晰、節能省電、堅固耐用等特點。
操作方便
經常需要操作的部位，都集中在靠近觀察者的位置，即顯微鏡的前面。如：視場光闌、孔徑光闌、起偏器、檢偏器、檢板插拔以及明暗視野切換等。
結構緊湊、占地面積小、抗振、堅固耐用
箱形結構，堅固而耐用；與TME300相比，占地面積更小，可節約大約 1/3 的空間。
光學性能高、照明均勻、節能省電
採用Nikon特有的CFI60光學系統，不僅可以得到對比度高的、清晰的明視場圖像，還可以得到亮度為過去的3倍的暗視野圖像；新開發了 1 倍與 40 倍物鏡； 目鏡視場數達 25mm，與新開發的1倍物鏡相結合，直徑 25mm 的樣品也可以全部看一次性地全部看見；照明均勻、成象清晰；新開發的 12V50W 鹵素燈照明，其照明亮度完全可以媲美過去的 12V100W 鹵素燈照明，且電力可以節省一半。
顯微攝影及圖像處理
通過選配Nikon的DS系列數碼相機，可以進行顯微攝影；所拍攝到的顯微圖片可以通過兩種途徑進行觀察及後續處理，分別為：
DS-L2
1. DS-L2型獨立顯示控制器 (圖像資料可以保存到U盤)
DS-U2
2. DS-U2型電腦連接控制器，後者需要配合NIS Elements軟體一起使用利用NIS Elements軟體中的功能，可以實現顯微圖像的無縫拼接；利用NIS Elements軟體中的功能，可以進行材料分析，如晶粒度分析、球墨鑄鐵的石墨球化率分析等。
產品規格
尼康全新解決方案：一款理想的新型顯微鏡
正面操作
所有控制部件均位於儀器正面。 使用起來十分方便。
自動偵測目前物鏡位址並在主機前面板上顯示。
| 緊湊的內建設計 內建轉盤可防止照明濾光片上堆積灰塵，保持明亮、一致的照明效果。 此外，內建電源的設計也節省了空間。  |
操作簡單 檢偏器 / 起偏器互鎖機構 可方便連接 / 鬆開檢偏器 / 起偏器附件。 |
明場 / 暗場自動孔徑切換 從明場觀察切換至暗場觀察時，視場光闌和孔徑光闌會自動打開。 回到明場觀察時，一器會自動恢復先前的視野和孔徑光闌。  |
| 防眩光機構 此機構可自動防止切換物鏡時產生的反射眩光。 |
迅速查看狀態 使用者可透過顯微鏡前面板輕鬆查看物鏡和標本的觀察位置。 |
箱式結構
佔地面積比傳統型號更小：僅為傳統型號的 1/3！
因為採用獨特的箱式結構，MA200更加耐用。
- 深度僅 315mm 的緊湊結構
採用箱式結構的MA200顯微鏡的寬度和深度均比傳統型號大幅降低：其占地面積僅為傳統型號的 1/3！ - 極高的穩定性 / 耐久性
減少高倍觀察時的影像抖動。 具有極高的強度。
高效能
基本性能大幅提升。 設計更符合人機理念，觀察影像更清晰。
- 超寬視野
將具有超寬視野的MA200與尼康新開發的1x物鏡鏡頭結合使用，可在同一視野中觀察直徑高達 25mm 的標本。
- 均勻的照明
更均勻、一致的照明可增強影像的清晰度，特別適合數位成像
通過合成功能，最多可拼接 8 幅影像
- CFI60光學系統
全球領先的NikonCFI60光學系統的亮度為傳統型號的三倍，可提供清晰的高對比度明場和暗場影像。 該產品線還包括新開發的 1x 和 40x 物鏡鏡頭。 - 節能
50W鹵素燈光源與過去使用的100W光源亮度一致，但耗電量僅為後者的一半。
尼康顯微鏡獨有的最佳成像功能
影像拍攝
DS-L2相機控制裝置 - 獨立型
使用者無需使用目鏡，便可透過內建高解析度、大尺寸（8.4吋）XGA LCD 顯示屏，輕鬆觀察和討論標本情況。
| 可方便儲存 / 列印數據 | 狀態顯示 |
|---|---|
| 已拍攝影像可儲存至 USB 記憶體或CF卡。 除了可透過相容PictBridge的印表機直列印，使用者還可透過區域網路將資料儲存至伺服器。 |
僅限MA200 當物鏡倍率精度改變時，可自動改變校準資料。 因此使用者可方便地使用DS-L2的測量功能。 照明亮度可透過調整電壓值的方式手動調整。 這一 點對於設定最佳觀察和拍攝參數非常重要。 |
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影像分析
DS-L2相機控制裝置 - PC控制型
影像軟體NIS-Elements - 控制軟體
使用者可透過DS-U2和NIS-Elements進行從拍照到測量、分析及管理已拍攝影像等一系列操作。 *要了解更多信息，請查看NIS-Elements產品目錄
合成
相鄰的影像可以拼接在一起，創造出寬視野影像。 因為照明效果更加均勻、一致，現在拍攝的影像更加生動。
狀態顯示
僅限MA200
當物鏡倍率精度改變時，可自動改變校準資料。 因此使用者可方便地使用NIS-Elements的測量功能和其他可選軟體模組（晶粒度和鑄鐵球化率分析模組等）。
使用者可透過PC調整照明條件，這點對於設定最佳觀察、影像拍攝參數，尤其是大影像合成參數非常重要。
（同時顯示中間可變倍率精度）
晶粒粒度分析模組
選配
本模組可依 JIS G0551或 ASTM E112-96/E1382-97 標準檢測並測量1個或2個相位標本的晶粒度。
可進行以下測量：
- G 晶粒度
- 單位面積內的晶粒度及/或截距
- 晶粒數量
- 向異性指數
- 其他基本晶粒度統計
可依使用者需求提供以下客製化測量技術：
- 平面
- 線性
- 圓形
- Abrams
鑄鐵球化率分析模組
選配
本模組可依據 JIS G5502 或 ASTM A247-06標準檢測、測量和分類石墨校正標本的石墨成分和鐵氧體成分。
主要應用：
- 石墨形狀及尺寸分類
- 結核狀態
- 石墨、鐵氧體、珠光體成份
- 其他基本鐵質材料分析統計
- 影像遮罩、尺寸限制及模組形狀分類
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